膜形成用組成物、膜の形成方法、及び膜

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：樋口武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-318938
公開番号（公開出願番号）：特開2001-131469
出願日： 1999年11月09日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：

【要約】【課題】加工性に優れるとともに、耐熱性、低誘電性、及び機械的強度に優れた塗膜を形成し得る膜形成用組成物、膜の形成方法、及び膜を提供する。【解決手段】(A)下記式(1)に示す繰り返し単位を10モル%以上含む重合体、(B)TG/DTAにより窒素下、昇温速度10°C/分の条件で測定した5%重量減少温度が200〜400°Cの有機化合物、及び(C)有機溶媒を含有してなることを特徴とする膜形成用組成物。【化1】[式(1)中、Yは、特定の2価の有機基を示し、Arは、2価の芳香族基を示す。]

請求項（抜粋）：

(A)下記式(1)に示す繰り返し単位を10モル%以上含む重合体、(B)TG/DTAにより窒素下、昇温速度10°C/分の条件で測定した5%重量減少温度が200〜400°Cの有機化合物、及び(C)有機溶媒を含有してなることを特徴とする膜形成用組成物。【化1】[式(1)中、Yは、下記式(2)又は下記式(3)に示す2価の有機基を示し、Arは、2価の芳香族基を示す。]【化2】[式(2)中、R1〜R2は、同一でも異なっていてもよく、シス(cis)位置にあり、水素原子、アルキル基、アリール基を示す。]【化3】[式(3)中、R3〜R6は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリール基を示す。]

IPC (4件)：

C09D165/00 , C08G 61/02 , C09D 5/25 , H01L 21/312

FI (4件)：

C09D165/00 , C08G 61/02 , C09D 5/25 , H01L 21/312 A

Fターム (38件)：

4J032CA02 , 4J032CA03 , 4J032CA04 , 4J032CB04 , 4J032CB12 , 4J038BA192 , 4J038CD022 , 4J038CG142 , 4J038CG172 , 4J038CK032 , 4J038CR071 , 4J038DA062 , 4J038DA162 , 4J038DB002 , 4J038DD002 , 4J038DE002 , 4J038DF012 , 4J038DH002 , 4J038GA01 , 4J038KA06 , 4J038MA07 , 4J038MA12 , 4J038MA14 , 4J038NA11 , 4J038NA14 , 4J038NA17 , 4J038NA21 , 4J038NA23 , 4J038PA15 , 4J038PA19 , 4J038PB09 , 4J038PC03 , 5F058AA10 , 5F058AC10 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F058AH01 , 5F058AH02

引用特許：

出願人引用 (6件)

特許第4211161号
特開昭57-204268
多孔質膜、その製造法及び物品
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-023140 出願人：日立化成工業株式会社, 旭硝子株式会社

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審査官引用 (6件)

特許第4211161号
特開昭57-204268
多孔質膜、その製造法及び物品
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-023140 出願人：日立化成工業株式会社, 旭硝子株式会社

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