特許
J-GLOBAL ID:200903051044863080
膜形成用組成物、膜の形成方法、及び膜
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
樋口 武
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-318938
公開番号(公開出願番号):特開2001-131469
出願日: 1999年11月09日
公開日(公表日): 2001年05月15日
要約:
【要約】【課題】加工性に優れるとともに、耐熱性、低誘電性、及び機械的強度に優れた塗膜を形成し得る膜形成用組成物、膜の形成方法、及び膜を提供する。【解決手段】(A)下記式(1)に示す繰り返し単位を10モル%以上含む重合体、(B)TG/DTAにより窒素下、昇温速度10°C/分の条件で測定した5%重量減少温度が200〜400°Cの有機化合物、及び(C)有機溶媒を含有してなることを特徴とする膜形成用組成物。【化1】[式(1)中、Yは、特定の2価の有機基を示し、Arは、2価の芳香族基を示す。]
請求項(抜粋):
(A)下記式(1)に示す繰り返し単位を10モル%以上含む重合体、(B)TG/DTAにより窒素下、昇温速度10°C/分の条件で測定した5%重量減少温度が200〜400°Cの有機化合物、及び(C)有機溶媒を含有してなることを特徴とする膜形成用組成物。【化1】[式(1)中、Yは、下記式(2)又は下記式(3)に示す2価の有機基を示し、Arは、2価の芳香族基を示す。]【化2】[式(2)中、R1〜R2は、同一でも異なっていてもよく、シス(cis)位置にあり、水素原子、アルキル基、アリール基を示す。]【化3】[式(3)中、R3〜R6は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリール基を示す。]
IPC (4件):
C09D165/00
, C08G 61/02
, C09D 5/25
, H01L 21/312
FI (4件):
C09D165/00
, C08G 61/02
, C09D 5/25
, H01L 21/312 A
Fターム (38件):
4J032CA02
, 4J032CA03
, 4J032CA04
, 4J032CB04
, 4J032CB12
, 4J038BA192
, 4J038CD022
, 4J038CG142
, 4J038CG172
, 4J038CK032
, 4J038CR071
, 4J038DA062
, 4J038DA162
, 4J038DB002
, 4J038DD002
, 4J038DE002
, 4J038DF012
, 4J038DH002
, 4J038GA01
, 4J038KA06
, 4J038MA07
, 4J038MA12
, 4J038MA14
, 4J038NA11
, 4J038NA14
, 4J038NA17
, 4J038NA21
, 4J038NA23
, 4J038PA15
, 4J038PA19
, 4J038PB09
, 4J038PC03
, 5F058AA10
, 5F058AC10
, 5F058AF04
, 5F058AG01
, 5F058AH01
, 5F058AH02
引用特許:
出願人引用 (6件)
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特許第4211161号
-
特開昭57-204268
-
多孔質膜、その製造法及び物品
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-023140
出願人:日立化成工業株式会社, 旭硝子株式会社
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審査官引用 (6件)
-
特許第4211161号
-
特開昭57-204268
-
多孔質膜、その製造法及び物品
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-023140
出願人:日立化成工業株式会社, 旭硝子株式会社
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