特許
J-GLOBAL ID:200903051046415239

有機EL素子およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 上柳 雅誉 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-104614
公開番号(公開出願番号):特開2002-305077
出願日: 2001年04月03日
公開日(公表日): 2002年10月18日
要約:
【要約】【課題】プラズマ処理を用いることなく、簡便に表面の撥インク性処理を行う【解決手段】表面処理剤を吸収または付着させた原板を、基板に対して密着させることにより、バンクを有する基板の、バンクの表面の一部に表面処理剤を転写する。
請求項(抜粋):
所定の高さのバンクおよび前記バンクに区切られた被塗布領域が形成された基板に、正孔注入層と発光層を、陽極および陰極で挟持した構造の有機EL素子の製造方法であって、前記基板に対して、撥インク処理を施すための表面処理剤を吸収または表面に付着させた原板を接触させることにより、前記表面処理剤の一部を転写し、前記バンクの表面の一部に対して撥インク性を付与する工程と、前記工程により撥インク性を付与されなかった領域に対して正孔注入層と発光層を形成するため材料を含むインク組成物を塗布する工程と、を有することを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (3件):
H05B 33/10 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22
FI (4件):
H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 D ,  H05B 33/22 Z
Fターム (10件):
3K007AB04 ,  3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01
引用特許:
審査官引用 (2件)

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