特許

J-GLOBAL ID：200903051094061368

連続熱処理装置

発明者： 岩谷 伸雄
出願人/特許権者： 株式会社デンコー
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-339394
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159768
出願日： 1993年12月03日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 搬入路(加熱・搬送部)3を順次搬送されながら 250°Cに加熱された被処理物(LCD用ガラス基板)Wは、炉本体(温度保持部)2内で1段づつ上昇するカセット5に上段から順次収容される。カセット5は、被処理物Wを収し切ると下降し、上段から被処理物Wが順次搬出路(冷却・搬送部)4で冷却されながら炉本体2から搬出される。炉本体2内では被処理物Wは 250°Cに保持される。加熱及び温度保持は、遠赤外線放射板10、9によってなされ、冷却は、アルミニウム板8Aの表面の遠赤外線吸収材層8B及びアルミニウム板8A内の水冷パイプ8Cによってなされる。【効果】 温度保持は、装置の占有面積が小さくて済む。また、装置内に塵が発生せず、被処理物の品質が劣化することがない。

請求項（抜粋）：

複数の板状被処理物を所定温度へ枚葉加熱しながら順次搬送する加熱・搬送部と、この加熱・搬送部によって前記所定温度に加熱されて搬送されて来る前記の各板状被処理物を順次収容し、これら板状被処理物を前記所定温度に所定時間保持する温度保持部と、この温度保持部にて前記所定温度に前記所定時間保持された前記各板状被処理物を前記温度保持部から順次搬送しながら枚葉冷却する冷却・搬送部とを有し、前記加熱・搬送部及び前記冷却・搬送部に前記板状被処理物を略水平方向に連続的に搬送する搬送機構が設けられ、前記温度保持部に前記の各板状被処理物を上下方向に所定間隙を隔てて順次支持しながら略上下方向に移動可能な被処理物支持部材及びこの被処理物支持部材を上下動させる上下動機構が設けられ、かつ、前記の加熱及び温度保持が放射加熱方式によってなされる連続熱処理装置。

IPC (2件)：

G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/13 101

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 連続処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-034237   出願人：株式会社デンコー
• 特開平4-279875
  
• 特開昭63-180076