活性ガス生成方法、生成装置及び排ガス処理システム装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野河信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-217285
公開番号（公開出願番号）：特開2007-029862
出願日： 2005年07月27日
公開日（公表日）： 2007年02月08日
要約：

【課題】排ガス処理において十分な活性ガスを発生させるためには大型装置が必要であるが、本発明は、装置をコンパクトにし、且つ運転コストも低価にできる高効率のオゾンを1例とする活性ガス生成方法、生成装置及び排ガス処理システム装置を提供する。【解決手段】排ガス処理、表面処理、脱臭などに利用可能な活性ガスの生成方法において、原料のガスを、電極間にて放電を行うプラズマ反応器に導入して前記活性ガスを発生させ、該活性ガスの一部を、前記プラズマ反応器に導入し、循環して高濃度化する活性ガス生成方法及び生成装置並びにこれを用いた排ガス処理システム装置を使用する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

排ガス処理、表面処理、脱臭などに利用可能な活性ガスの生成方法において、原料のガスを、電極間にて放電を行うプラズマ反応器に導入して前記活性ガスを発生させ、該活性ガスの全部又は一部を、前記プラズマ反応器に導入し、循環して高濃度化することを特徴とする活性ガス生成方法。

IPC (6件)：

B01D 53/56 , B01D 53/74 , B01J 19/08 , B01D 53/77 , A61L 9/22 , A61L 9/015

FI (5件)：

B01D53/34 129C , B01J19/08 E , B01D53/34 130C , A61L9/22 , A61L9/015

Fターム (31件)：

4C080AA03 , 4C080AA09 , 4C080BB02 , 4C080CC01 , 4C080HH02 , 4C080KK02 , 4C080MM08 , 4C080MM40 , 4D002AA12 , 4D002AC10 , 4D002BA02 , 4D002BA07 , 4D002CA01 , 4D002DA02 , 4D002DA13 , 4D002EA02 , 4G075AA03 , 4G075AA37 , 4G075BA05 , 4G075BA06 , 4G075BA08 , 4G075BB04 , 4G075BD13 , 4G075CA47 , 4G075CA62 , 4G075DA02 , 4G075EB01 , 4G075EC21 , 4G075EC25 , 4G075FB02 , 4G075FC15

引用特許：

出願人引用 (3件)

排気ガス処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-227920 出願人：日本碍子株式会社, 大久保雅章, 山本俊昭
窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-219909 出願人：株式会社三電舎, 山本俊昭, 楊禎禄, 水野彰
窒素酸化物の浄化方法及び浄化装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-226102 出願人：株式会社三電舍, 山本俊昭, 楊禎禄, 水野彰

審査官引用 (2件)

高濃度オゾンガスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-363769 出願人：株式会社山広
特開平3-028108

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