特許
J-GLOBAL ID：200903051117881430
レーザープラズマX線源
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-068782
公開番号（公開出願番号）：特開平6-283407
出願日： 1993年03月26日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 X線の発生位置を一定にする。【構成】 巻取り可能な帯状に形成された標的物質102にレーザー光106を照射して該標的物質をプラズマ化し、該プラズマからX線を発生させるレーザープラズマX線源において、標的物質102を巻き取る回転手段117、118、回転手段を駆動する駆動手段および標的物質のレーザー光の照射位置と回転手段との間に配置される標的物質を所定の圧力で挟み込む手段107、110、123、125を設けた。
請求項（抜粋）：
巻取り可能な帯状に形成された標的物質にレーザー光を照射して該標的物質をプラズマ化し、該プラズマからX線を発生させるレーザープラズマX線源において、前記標的物質を巻き取る回転手段、該回転手段を駆動する駆動手段および前記標的物質のレーザー光の照射位置と前記回転手段との間に配置される前記標的物質を所定の圧力で挟み込む手段を設けたことを特徴とするレーザープラズマX線源。
引用特許：
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