特許
J-GLOBAL ID：200903051185393932
赤外線焦点加熱装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-095996
公開番号（公開出願番号）：特開平9-257770
出願日： 1996年03月26日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 赤外線ランプの照射によって、各種固体の小形状からなる試料体の加熱が効率良く、簡易に行えるようにし、また、超音波技術の応用によって、試料体の弾性パラメ-タ-及び内部摩耗が常温から高温広温度領域にわたって測定可能にすること。【解決手段】 試料載置台2は、雰囲気炉9を構成する保護管1内に配置され、保護管1の外周囲にある集光ミラ-6の凹曲面部7内には、赤外線ランプ5が配置される。前記凹曲面部7は、楕円体面を基礎にした形状であるため、赤外線ランプ5の反射光が試料体3の表面部に対してピンポイント照射し、これに伴って局部加熱されて高温度領域の加熱が可能になる。試料載置台2は、超音波導波体として構成することもでき、超音波パルスの伝搬時間及び減衰率を演算処理することによって、弾性パラメ-タ-、内部摩耗が測定できる。
請求項（抜粋）：
試料載置台2上に配置される試料体3には、赤外線ランプ5により照射されるようにした赤外線加熱装置において、前記試料載置台2は、雰囲気炉9を構成する保護管1の内部空間内に配置されるようになっており、前記赤外線ランプ5は、前記保護管1の外周囲に離間して配置された1又は複数からなる集光ミラ-6の楕円体面を基礎とする凹曲面部7内に配置され、赤外線ランプ5の照射にあたっては、前記試料体3が前記凹曲面部7からの反射光によってピンポイント照射され、これに伴って局部加熱されることを特徴とする赤外線焦点加熱装置。
IPC (3件)：
G01N 29/18
, G01N 25/00
, G01N 29/20
G01N 29/18
, G01N 25/00 K
, G01N 29/20
