特許
J-GLOBAL ID：200903051198739609
ノルボルネン系樹脂及び成形品の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大石 治仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-133092
公開番号（公開出願番号）：特開2002-327045
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年11月15日
要約：
【要約】【課題】ルテニウム錯体触媒の極めて高い触媒活性を抑制しながら、取扱い易い状態で重合準備操作ができ、重合反応段階では速やかに反応を進行させることができるノルボルネン系樹脂及び成形品の製造方法を提供する。【解決手段】ルテニウムに少なくとも一つのヘテロ原子含有カルベン化合物が結合してなる錯体触媒、及び式(1):PR1R2R3(R1〜R3は炭素数1〜30の炭化水素基等を表し、少なくとも1つは1級炭化水素基である。)で表される化合物又は式(2):R4NH2(R4は炭素数1〜30のアルキル基等を表す。)で表される化合物(遅延剤)を併用してノルボルネン系モノマーを重合させるノルボルネン系樹脂の製造方法、並びに前記遅延剤、ノルボルネン系モノマー及び前記錯体触媒を混合してなる反応液を成形型内へ注入し、ポストキュアー処理することなく硬化させるノルボルネン系樹脂成形品の製造方法。
請求項（抜粋）：
ノルボルネン系モノマーを、ルテニウムに少なくとも一つのヘテロ原子含有カルベン化合物が結合してなるルテニウム錯体触媒を用いて重合させるノルボルネン系樹脂の製造方法であって、一般式(1):PR1R2R3(式中、R1〜R3は、それぞれ独立して炭素数1〜30の炭化水素基を表し、それらの少なくとも1つは一級炭化水素基である。また、R1とR2、R2とR3又はR1とR3は、一緒になって結合して環を形成していてもよい。)で表されるホスフィン化合物、及び一般式(2):R4NH2(式中、R4は置換基を有してもよい炭素数1〜30のアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。)で表される一級アミン化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を、前記触媒と併用することを特徴とするノルボルネン系樹脂の製造方法。
IPC (3件)：
C08G 61/06
, C08J 5/00 CEZ
, C08L 65:00
C08G 61/06
, C08J 5/00 CEZ
, C08L 65:00
4F071AA69
, 4F071AC15
, 4F071AC18
, 4F071BB01
, 4J032CA34
, 4J032CA36
, 4J032CA38
, 4J032CA43
, 4J032CA45
, 4J032CA46
, 4J032CB01
, 4J032CB03
, 4J032CD02
, 4J032CE06
, 4J032CE17
, 4J032CG07
