特許

J-GLOBAL ID：200903051226515649

真空蒸着装置

発明者： 菊池 和夫 ,  税所 慎一郎 ,  長家 幸子
出願人/特許権者： 株式会社シンクロン
代理人 (1件)： 臼村 文男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-051964
公開番号（公開出願番号）：特開平8-225940
出願日： 1995年02月16日
公開日（公表日）： 1996年09月03日
要約：

【要約】【構成】 駆動ロール45により連続フィルム状基板31を蒸着室13内の蒸着ゾーンに連続的に供給して搬送し、連続フィルム状基板に薄膜を形成して連続的に蒸発室外に回収する真空蒸着装置において、蒸着ゾーンの終点に至る以前の位置において、連続フィルム状基板に堆積した薄膜の膜厚を測定する膜厚測定手段51,53,71,73を具え、この測定値から最終的に形成される薄膜の膜厚を制御する真空蒸着装置。連続フィルム状基板と駆動ロールとが接していない部位を有し、この部位で膜厚測定手段が薄膜の膜厚を測定する。【効果】 連続フィルム状基板に対して連続的に薄膜を形成するに際し、設定値からの膜厚の変動を迅速に検知し、敏速にフィードバック制御することができる。

請求項（抜粋）：

駆動ロールにより連続フィルム状基板を蒸着室内の蒸着ゾーンに連続的に供給して搬送し、連続フィルム状基板に薄膜を形成して連続的に蒸発室外に回収する真空蒸着装置において、蒸着ゾーンの終点に至る以前の位置において、連続フィルム状基板に堆積した薄膜の膜厚を測定する膜厚測定手段を具え、この測定値から最終的に形成される薄膜の膜厚を制御することを特徴とする真空蒸着装置。

IPC (2件)：

C23C 14/56 ,  C23C 14/54

FI (2件)：

C23C 14/56 A ,  C23C 14/54 F

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 蒸着膜厚の制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-090460   出願人：三菱重工業株式会社