特許
J-GLOBAL ID:200903051239211673
光配向層の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-292128
公開番号(公開出願番号):特開2002-098969
出願日: 2000年09月26日
公開日(公表日): 2002年04月05日
要約:
【要約】【課題】 液晶の配向ムラが無く、材料設計通りの平均チルト角を有する光学異方層を得られ、且つ、塗布故障の少ない光配向層の製造方法を提供する。【解決手段】 支持体上に光配向層を塗布した後、偏光紫外線を照射する工程において支持体上の偏光紫外線の照射面積内で偏光紫外線光の入射角のばらつきが支持体の進行方向または巾手方向で±5°以内であることを特徴とする光配向層の製造方法。
請求項(抜粋):
支持体上に光配向層を塗布した後、該光配向層に偏光紫外線を照射する工程を有する光配向層の製造方法において、該支持体上の該偏光紫外線の照射面積内で該支持体の搬送方向または幅手方向における、該支持体の振幅が10mm以内であることを特徴とする光配向層の製造方法。
IPC (4件):
G02F 1/1337 520
, C08J 7/00 CER
, C08J 7/00 304
, C08L101:00
FI (4件):
G02F 1/1337 520
, C08J 7/00 CER Z
, C08J 7/00 304
, C08L101:00
Fターム (11件):
2H090HB13Y
, 2H090HC05
, 2H090HC14
, 2H090KA05
, 2H090MA10
, 2H090MB12
, 2H090MB14
, 4F073AA32
, 4F073BA18
, 4F073BB01
, 4F073CA45
引用特許:
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