特許

J-GLOBAL ID：200903051272985579

ジベンゾアゼピン系重合体

発明者： 林 英樹 ,  原田 征 ,  平野 幸治
出願人/特許権者： 名古屋市
代理人 (1件)： 久米 道之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-261762
公開番号（公開出願番号）：特開2006-077106
出願日： 2004年09月09日
公開日（公表日）： 2006年03月23日
要約：

【課題】均質な膜を容易かつ低廉に製造可能で、環境を汚染しにくい重合体を提供。【解決手段】下記式(1)で表される化合物を主鎖の骨格とする重合体を、下記式(2)の化合物の脱ハロゲン化重縮合または下記式(3)の化合物の酸化重合にて合成する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるジベンゾアゼピン化合物を主鎖骨格とする重合体。

IPC (3件)：

C08G 61/12 ,  C08L 65/00 ,  C08L 101/00

FI (3件)：

C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  C08L101/00

Fターム (16件)：

4J002BB021 ,  4J002BB121 ,  4J002BC041 ,  4J002BD121 ,  4J002BG001 ,  4J002BQ002 ,  4J002CD001 ,  4J002CF001 ,  4J002CG001 ,  4J002CK001 ,  4J002FD202 ,  4J002GQ00 ,  4J032BA12 ,  4J032BB01 ,  4J032BC02 ,  4J032CG03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 有機薄膜EL素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-108648   出願人：凸版印刷株式会社
• フェナザシリン化合物およびそれを用いた有機薄膜EL素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-336143   出願人：凸版印刷株式会社

審査官引用 (1件)

• 錯体組成物、高分子錯体化合物、および高分子発光素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-084771   出願人：住友化学工業株式会社