特許
J-GLOBAL ID：200903051275626383

前周期遷移金属のメタラシクロペンタジエンへのアルキン化合物の位置選択的な環化付加によるベンゼン誘導体の製造方法

発明者：
高橋 保

高橋 保 について


出願人/特許権者：
高橋 保

高橋 保 について

, 
科学技術振興事業団

科学技術振興事業団 について


代理人 (1件)： 宮本 晴視
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-065994
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256219
出願日： 1999年03月12日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：
【要約】【目的】 メタラシクロペンタジエンへのアルキン化合物の位置選択的な環化付加によるベンゼン誘導体の製造方法の提供【構成】 遷移金属のメタラシクロペンタジエンを塩化ビスマス(BiCl3)を用いて一般式(2)のアルキン類(アセチレンカルボニル化合物類)と位置規則的に環化付加させてベンゼン誘導体を製造する方法
請求項（抜粋）：
一般式(1)の遷移金属のメタラシクロペンタジエンをハロゲン化ビスマス(XCl3:Xは、ハロゲン原子を表す。)を用いて一般式(2)のアルキン類を環化付加させてベンゼン誘導体(3)を製造する方法。【化1】(式中Mは、前周期遷移金属を表す。L1及びL2はそれぞれ、置換または非置換のシクロペンタジエニル基、インデニル基、フルオレニル基、アズレニル基、炭化水素オキシ基、アミド基、アセチルアセトナート基、カルボキシ基、ホスフィン配位子、アミン配位子、エーテル配位子、及びこれらが適当な架橋基により連結した配位子を表し、これらは同じでも異なっていてもかまわない。R1、R2、R3及びR4は、それぞれ炭素数が1〜20の範囲の置換または非置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族基、シリル基、アルコキシ基、エステル基、またはR2とR3で環を構成してもよい、を表す。)【化2】(R5及びR6は、それぞれ炭素数が1〜20の範囲の置換または非置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族基、シリル基、アルコキシ基、エステル基を表し、これらは同じでも異なっていても(非対称)かまわない。)【化3】(式中R1、R2、R3、R4、R5及びR6は前記と同じ)
IPC (2件)：
C07B 37/10 ,  C07C 69/76
FI (2件)：
C07B 37/10 ,  C07C 69/76 A
Fターム (7件)：
4H006AA02 ,  4H006AC28 ,  4H006BA13 ,  4H006BA37 ,  4H006BB25 ,  4H006BJ50 ,  4H006FC52
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (7件)
  • 多環式芳香族化合物の製造法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-114616   出願人：日産化学工業株式会社
  • 特開昭51-098691
  • 特開昭51-098691
全件表示
引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM