特許

J-GLOBAL ID：200903051301624068

熱処理装置

発明者： 大加瀬 亘
出願人/特許権者： 東京エレクトロン東北株式会社
代理人 (1件)： 井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-069375
公開番号（公開出願番号）：特開平6-260487
出願日： 1993年03月03日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：

【要約】【目的】 被処理体の全面を均一な温度で効率良く熱処理することができると共に製造工程でのスループットを向上させる。熱処理装置を提供することにある。【構成】 被処理体100を処理位置に移送する被処理体用ホルダー30に、被処理体100が所定の処理位置にあるときに処理位置の下方を覆うことのできる遮蔽部材30Bが設けられている。従って、処理位置からの輻射熱の漏洩を遮断するとともに、処理位置内の温度勾配を適正化した状態で維持することができる。

請求項（抜粋）：

被処理体の搬入出用の下端開口を有し、処理位置に配置される被処理体を加熱する熱源を備えている縦型プロセスチューブと、水平に支持した状態の上記被処理体を上記開口から上記プロセスチューブ内に搬入し、所定の処理位置に設定する被処理体用ホルダーと、上記プロセスチューブ内の処理位置に向け反応ガスを供給するガス供給手段とを有し、上記被処理体用ホルダーは、上記被処理体が所定の処理位置に設定された時に上記処理位置の下方を覆う遮蔽部材を備えていることを特徴とする熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/324 ,  H01L 21/31

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-087525   出願人：東京エレクトロン相模株式会社
• 特開平3-233888