特許

J-GLOBAL ID：200903051311976469

有機材料パターンの形成方法及び薄膜トランジスタの製造方法

発明者： 塚越 一仁 ,  八木 巌 ,  青柳 克信
出願人/特許権者： 独立行政法人理化学研究所
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-305844
公開番号（公開出願番号）：特開2005-079225
出願日： 2003年08月29日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：

【課題】 容易に有機材料パターン、特に、薄膜トランジスタにおける有機チャネルを形成する方法を提供する。【解決手段】 基板上に設けられた有機材料層の一部に発振波長が250〜800nmのレーザを照射することにより、当該照射部の有機材料を昇華させて所望のパターンを形成する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

基板上に設けられた有機材料層の一部に発振波長が250〜800nmのレーザを照射することにより、当該照射部の有機材料を昇華させて所望のパターンを形成することを特徴とする有機材料パターンの形成方法。

IPC (5件)：

H01L29/786 ,  B23K26/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/336 ,  H01L51/00

FI (5件)：

H01L29/78 618B ,  B23K26/00 H ,  H01L29/78 627C ,  H01L29/28 ,  H01L21/30 569Z

Fターム (18件)：

4E068AC01 ,  4E068CA01 ,  4E068CA10 ,  4E068DA11 ,  5F046LB10 ,  5F046MA13 ,  5F110AA16 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD05 ,  5F110DD13 ,  5F110DD17 ,  5F110DD21 ,  5F110GG05 ,  5F110GG06 ,  5F110GG25 ,  5F110GG42 ,  5F110QQ03

引用特許：

審査官引用 (3件)

• プリント基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-377732   出願人：日本ビクター株式会社
• 電界効果型トランジスタ、その製造方法及びそれを用いた液晶表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-146004   出願人：株式会社日立製作所
• 電界効果型トランジスタ並びにそれを用いた液晶表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-076693   出願人：株式会社日立製作所