特許
J-GLOBAL ID:200903051318059208

RDF焚き循環流動層炉

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 島村 芳明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-242555
公開番号(公開出願番号):特開平11-082968
出願日: 1997年09月08日
公開日(公表日): 1999年03月26日
要約:
【要約】【課題】RDF焚きに適した循環流動層炉を提供する。【解決手段】 底部に散気板7aを有する筒状で背の高いライザ部1と、円筒部2aとその下方に連接された逆截頭円錐状のホッパ部2bとを有し、前記ライザ部1頂部から前記円筒部2a側面に接線方向に接続管11が接続されており、ホッパ部2b下端には戻り管3が接続されており、上面中心にガス排出管10が接続されている旋回燃焼室2と、前記戻り管3下端に連設され、底部に散気板7bを有するとともに、内部に過熱蒸気管9を有し、オーバフローした流動媒体を前記ライザ部に戻すオーバフロー管12が接続された外部熱交換器4とからなるRDF焚き循環流動炉であって、ライザ部1内のガス滞留時間の旋回燃焼室2内のガス滞留時間に対する比が1.4ないし2.2である。
請求項(抜粋):
底部に散気板を有する筒状で背の高いライザ部と、円筒部とその下方に連接された逆截頭円錐状のホッパ部とを有し、前記ライザ部の頂部から前記円筒部側面に、接線方向に接続管が接続されており、前記ホッパ部下端には戻り管が接続されており、前記円筒部の上面中心にガス排出管が接続されている旋回燃焼室と、前記戻り管下端に連設され、底部に散気板を有するとともに、内部に過熱蒸気管を有し、オーバフローした流動媒体を前記ライザ部に戻すオーバフロー管が接続された外部熱交操器とからなるRDF焚き循環流動炉であって、ライザ部内のガス滞留時間の旋回燃焼室内のガス滞留時間に対する比が1.4〜2.2であるRDF焚き循環流動層炉。
IPC (5件):
F23G 5/30 ZAB ,  F23G 5/30 ,  F23C 11/02 301 ,  F23C 11/02 311 ,  F23G 5/46 ZAB
FI (6件):
F23G 5/30 ZAB Z ,  F23G 5/30 ZAB H ,  F23G 5/30 ZAB M ,  F23C 11/02 301 ,  F23C 11/02 311 ,  F23G 5/46 ZAB Z
引用特許:
審査官引用 (6件)
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