特許
J-GLOBAL ID：200903051328918152

ジオール類の製造方法

発明者：
小西 満月男

小西 満月男 について

, 
上野 英三郎

上野 英三郎 について


出願人/特許権者：
旭化成工業株式会社

旭化成工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-170735
公開番号（公開出願番号）：特開2001-002603
出願日： 1999年06月17日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：
【要約】【課題】 コハク酸、グルタル酸、アジピン酸の混合物を直接水素化還元反応することにより1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオールを高収率で得る製造方法を提供する。【解決手段】 あらかじめ水蒸気及び/または二酸化炭素で処理した炭素質担体にルテニウムと錫及び、レニウム、モリブデン、パラジウム、銀、ニッケルから選ばれる少なくとも一つの金属を担持した触媒を用い、シクロヘキサノン及び/またはシクロヘキサノールの硝酸酸化によるアジピン酸製造において副生するコハク酸、グルタル酸、アジピン酸を含有するジカルボン酸混合物を水存在下で水素化還元反応を行うことよりなる。
請求項（抜粋）：
コハク酸及び下記式(1)に示すジカルボン酸からなる混合物を触媒と水の存在下、水素と反応させて1,4-ブタンジオール及び下記式(2)のジオールからなる混合物を製造する方法において触媒としてあらかじめ水蒸気及び/又は二酸化炭素で処理した炭素質担体にルテニウムと錫及びレニウム、モリブデン、パラジウム、銀、ニッケルから選ばれる少なくとも一つの金属を担持して調整した触媒を用いることを特徴とするジオール類の製造方法。 HOOC-R-COOH (1)(式中、Rは炭素数が3〜20である飽和の二価の炭化水素基を表す) HO-CH2-R-CH2OH (2)(式中、Rは、式(1)のRと同じである)
IPC (5件)：
C07C 29/149 ,  B01J 23/652 ,  B01J 23/656 ,  C07C 31/20 ,  C07B 61/00 300
FI (6件)：
C07C 29/149 ,  C07C 31/20 B ,  C07C 31/20 Z ,  C07B 61/00 300 ,  B01J 23/64 103 X ,  B01J 23/64 104 X
Fターム (27件)：
4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006AC46 ,  4H006BA05 ,  4H006BA11 ,  4H006BA14 ,  4H006BA16 ,  4H006BA21 ,  4H006BA23 ,  4H006BA25 ,  4H006BA28 ,  4H006BA29 ,  4H006BA55 ,  4H006BA81 ,  4H006BB31 ,  4H006BB62 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BD70 ,  4H006BE20 ,  4H006BE41 ,  4H006BE60 ,  4H006FE11 ,  4H006FG28 ,  4H006FG29 ,  4H039CA60 ,  4H039CB40
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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