特許
J-GLOBAL ID:200903051363968154

真空バルブ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 高田 守 ,  高橋 英樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-141085
公開番号(公開出願番号):特開2006-318795
出願日: 2005年05月13日
公開日(公表日): 2006年11月24日
要約:
【課題】 真空バルブの接点と、該接点を囲むシールドとの間の耐電圧性能を向上させ、真空バルブの径方向の寸法を小さくする。【解決手段】 真空バルブの内部に、固定側接点8と可動側接点9とが対向して配置されている。これらの一対の接点を囲むように、絶縁筒1の内壁に、シールド10が設けられている。上記構成の真空バルブにおいて、固定側接点8のシールド10と対向する部分に溶融層11aを設け、可動側接点9のシールド10と対向する部分に溶融層11bを設けた構造とする。 このような構造とすることにより、固定側接点8、可動側接点9のシールド10と対向する部分の表面凹凸が平滑化される。これにより、固定側接点8-シールド10間、可動側接点9-シールド10間の耐電圧性能が向上する。従って、上記一対の接点とシールド10との間隔を小さくでき、真空バルブの径方向の寸法を小さくすることができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
絶縁筒の両端部を封着した真空容器と、 前記真空容器の内部で、対向する位置に接離可能に配置された一対の接点と、 前記真空容器の内部で、前記一対の接点を囲むように配置されたシールドとを備えた真空バルブであって、 前記一対の接点は、切削加工された後に、前記シールドと対向する部分に面粗度を小さくした層を設けたものであることを特徴とする真空バルブ。
IPC (1件):
H01H 33/66
FI (3件):
H01H33/66 A ,  H01H33/66 B ,  H01H33/66 D
Fターム (6件):
5G026BA02 ,  5G026BB09 ,  5G026BB12 ,  5G026BB14 ,  5G026BB15 ,  5G026DA02
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 真空バルブ
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-167596   出願人:株式会社東芝

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