特許
J-GLOBAL ID：200903051451097988
パターン評価方法及びパターン評価装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-065345
公開番号（公開出願番号）：特開平11-257940
出願日： 1998年03月16日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：
【要約】【課題】パターンのエッジラフネスを定量的に評価する。【解決手段】評価用パターンから2点の基準点を選択する。次いで、選択された2点の基準点の間を100等分し、100個の測定点を設定する。次いで、各測定点に対して電子ビームを走査し(ステップS1)、得られた複数の2次電子波形データをそれぞれ記憶する(ステップS2)。これらの2次元電子波形のデータを位置座標に変換し(ステップS3)、重畳計算処理して積算波形を得る(ステップS4)。積算波形の2つのピークのうち、一方のピークの位置に注目し、波形のあるしきい値以上の波形を正規分布関数で近似し、σ値からエッジラフネス評価を行う(ステップS5)。
請求項（抜粋）：
所定のパターンが形成された被測定物に対し、該パターンの輪郭形状を評価するパターン評価方法であって、前記被測定物の異なる複数の箇所にエネルギー線を平行に走査して該被測定物からの反射エネルギーを検出し、複数の反射信号パターンを求める工程と、複数の前記反射信号パターンを重畳し、重畳信号パターンを作成する工程と、前記重畳信号パターンのピークの広がりを求め、前記パターンの輪郭形状を評価する工程とを含むことを特徴とするパターン評価方法。
IPC (2件)：
G01B 15/00
, G03F 7/26 501
G01B 15/00 B
, G03F 7/26 501
