特許
J-GLOBAL ID：200903051551377686
データ処理方法、データ処理装置、マスク製造方法およびマスクパターン
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
谷 義一
, 阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-197873
公開番号（公開出願番号）：特開2006-044258
出願日： 2005年07月06日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：
【課題】 異なる複数の色のインクを用い複数回の走査で画像を完成する分割記録に用いられるマスクであって、記録の途中におけるグレインの発生を抑制しビーディングによる画質劣化を軽減できるマスクを提供する。【解決手段】 斥力ポテンシャルの合計が計算される各記録許容画素の中で、例えば、記録許容画素Doが斥力ポテンシャルの合計が最も大きい場合、その移動前後の斥力ポテンシャルの変化を求め、移動前後で最も斥力ポテンシャルの合計が低くなる画素に記録許容画素Doを移動させる。このような処理を繰り返すことによって各プレーン全体の総エネルギーを下げることができ、各プレーンのマスクの重なりにおいて記録許容画素分布が、低周波数成分が少なく良好に分散された配置となる。【選択図】 図10
請求項（抜粋）：
複数種類のドットを複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成するのに用いられるマスクパターンの製造方法において、
前記複数種類のドットに対応した複数のマスクパターンそれぞれにおける記録許容画素の配置を決定する決定工程を有し、
前記決定工程は、前記複数のマスクパターンそれぞれにおける記録許容画素の配置で定まる低周波数成分が当該複数のマスクパターンで共に少なくなるように記録許容画素の配置を定める工程を含むことを特徴とするマスク製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B41J3/04 101Z
, H04N1/23 101C
2C056EA05
, 2C056EA06
, 2C056EA11
, 2C056EB58
, 2C056EB59
, 2C056EC08
, 2C056EC37
, 2C056EC71
, 2C056EC74
, 2C056EE08
, 2C056EE10
, 2C056FA02
, 2C056FA10
, 2C056HA07
, 2C056HA22
, 5C074AA02
, 5C074BB16
, 5C074DD01
, 5C074DD03
, 5C074DD05
, 5C074DD15
, 5C074DD24
, 5C074EE04
, 5C074FF05
, 5C074FF15
, 5C074GG09
