特許
J-GLOBAL ID：200903051593375900
基板の洗浄方法及びそれに用いるアルカリ性洗浄組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-110740
公開番号（公開出願番号）：特開平8-306650
出願日： 1995年05月09日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：
【要約】【目的】Fe及びAl等の金属の付着が防止され、且つ除去能力にも優れているアルカリ性洗浄組成物を提供する。【構成】アルカリ性洗浄組成物を用いて基板を洗浄するにあたり、基板のゼータ電位を+50mV以上に制御する基板の洗浄方法、及び、アルカリ性溶液中に、基板のゼータ電位を+50mV以上に制御することができる物質を添加含有せしめたアルカリ性洗浄組成物。
請求項（抜粋）：
アルカリ性洗浄組成物を用いて基板を洗浄するにあたり、基板のゼータ電位を+50mV以上に制御することを特徴とする基板の洗浄方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, C11D 3/04
, C11D 3/395
H01L 21/304 341 L
, H01L 21/304 341 M
, C11D 3/04
, C11D 3/395
