チアジアゾール構造含有高分子の製造方法、チアジアゾール構造含有高分子、並びにそれを用いた電荷輸送材料及び有機電子デバイス

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：真田有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-323723
公開番号（公開出願番号）：特開2006-131799
出願日： 2004年11月08日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：

【課題】バイポーラ型半導体特性を示すチアジアゾール構造含有高分子を、効率的に製造するための方法を提供する。【解決手段】下記式(1)で表わされる構造を繰り返し単位として含有するチアジアゾール構造含有高分子を製造する際に、少なくとも下記式(2)で表わされる化合物を用いて、金属錯体の存在下で重合させる。(式(2)中、Xは、ハロゲン原子を表わす。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表わされる構造を繰り返し単位として含有するチアジアゾール構造含有高分子を製造する方法において、少なくとも下記式(2)で表わされる化合物を用いて、金属錯体の存在下で重合させることを特徴とする、チアジアゾール構造含有高分子の製造方法。

IPC (1件)：

C08G 61/12

FI (1件)：

C08G61/12

Fターム (7件)：

4J032BA02 , 4J032BA12 , 4J032BA20 , 4J032BB01 , 4J032BB03 , 4J032BC03 , 4J032CG01

引用特許：

出願人引用 (1件)

オキサジアゾール基含有高分子、その製法およびそれを用いた有機EL素子
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-094818 出願人：ケミプロ化成株式会社

審査官引用 (10件)

特公昭43-015992
ポリ(オリゴチオフェン-アリーレン)誘導体、有機半導体共重合体、半導体多層構造、およびポリ(オリゴチオフェン-アリーレン)誘導体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-200807 出願人：三星電子株式会社
特公昭43-015992

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