ウェーハ洗浄装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-198608
公開番号（公開出願番号）：特開平8-064568
出願日： 1994年08月23日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：

【要約】【目的】ウェーハの枚葉洗浄における洗浄液のウェーハの非洗浄面への回り込みによる汚染を防止する。【構成】ウェーハ上面を洗浄しているとき、ウェーハ下面(非洗浄面)の外周部にガスを吹付けることによって上面から下面への洗浄液の回り込みを抑制する。ウェーハの外周に配置されたガイドピンによってウェーハを回転させる載置台からのウェーハの飛出しが防止される。また、ガス流あるいはガイドピンによってウェーハを載置台から持上げ、ウェーハ及び載置台間を非接触とし、ウェーハの汚染を防止する。【効果】ウェーハの非洗浄面の汚染が防止される。

請求項（抜粋）：

洗浄の対象となるウェーハを平らに載置でき、かつ回転可能である載置台と、前記ウェーハの外周を囲むように前記載置台の外周部に複数配置されるガイドピンと、前記ウェーハ及び前記載置台相互の空間に、前記ウェーハ下面を内側から外側に向って吹付けるガス流を形成するガス流形成手段と、前記載置台を回転駆動する回転駆動手段と、前記ウェーハの上面に、洗浄液を滴下するノズルと、を備えるウェーハ洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , B08B 3/02

引用特許：

審査官引用 (3件)

処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-213733 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
基板端縁洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-270875 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
ウエハ洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-298345 出願人：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社

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