特許

J-GLOBAL ID：200903051685275600

結晶体の直径制御装置

発明者： 尾上 修治
出願人/特許権者： コマツ電子金属株式会社
代理人 (1件)： 木村 高久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-108100
公開番号（公開出願番号）：特開2000-335996
出願日： 1999年04月15日
公開日（公表日）： 2000年12月05日
要約：

【要約】【課題】光学式制御における結晶体の連続自動形成に有効な結晶体の直径制御装置を提供する。【解決手段】直径偏差(GDD)を第1演算実行部(68-1)入力して、該直径偏差(GDD)を面積偏差(GAD)に変換し、これを速度制御系を構成するPD型速度操作アンプ(86)と、温度制御系を構成するI型温度操作アンプ(88)に並列入力する。

請求項（抜粋）：

結晶体(10)の成長直径(GD)と目標直径(GD0)との差、即ち、直径偏差(GDD)を制御系(100)に入力して、該結晶体の成長直径(GD)を制御する結晶体の直径制御装置において、前記直径偏差に前記結晶体の直径情報を加味した偏差信号(DEV)を生成し、該生成した偏差信号を前記制御系に入力することを特徴とする結晶体の直径制御装置。

IPC (4件)：

C30B 15/22 ,  C30B 29/06 502 ,  G05D 5/00 ,  H01L 21/208

FI (4件)：

C30B 15/22 ,  C30B 29/06 502 Z ,  G05D 5/00 Z ,  H01L 21/208 P

Fターム (13件)：

4G077AA02 ,  4G077BA04 ,  4G077CF10 ,  4G077EH04 ,  4G077PF04 ,  4G077PF08 ,  4G077PF13 ,  5F053AA12 ,  5F053BB04 ,  5F053DD01 ,  5F053FF04 ,  5F053GG01 ,  5F053RR01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-088795
  
• 特開昭59-116189
  
• 半導体単結晶の直径制御方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-151404   出願人：コマツ電子金属株式会社