特許

J-GLOBAL ID：200903051706323308

光触媒およびその製造方法

発明者： 江原 襄 ,  関根 幸平 ,  井上 森雄 ,  高木 俊宜 ,  安保 正一 ,  山下 弘巳 ,  吉川 暹
出願人/特許権者： 株式会社イオン工学研究所
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-203694
公開番号（公開出願番号）：特開平10-043601
出願日： 1996年08月01日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：

【要約】【課題】 有機物質を効率よく分解することができ、かつ容易に分離回収することができる光触媒およびその製造方法を提供することである。【解決手段】 板状の多孔質バイコールガラス(PVG)を担体とし、イオン注入法によりそのPVGの表面から数10nmの深さにTiイオンまたはVイオンを注入する。これを焼成することで、酸化チタンまたは酸化バナジウムが生成される。酸化チタンまたは酸化バナジウムがPVGの表面近傍に高分散状態で保持され、光触媒活性種として作用する。

請求項（抜粋）：

光透過性を有しかつ酸素元素を含む多孔質材料に所定の金属元素をイオン注入することにより前記金属元素の酸化物からなる光触媒活性種を前記多孔質材料に分散して固定化担持させることを特徴とする光触媒の製造方法。

IPC (13件)：

B01J 35/02 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 21/06 ZAB ,  B01J 23/06 ,  B01J 23/22 ,  B01J 23/28 ,  B01J 23/50 ,  B01J 23/68 ,  B01J 23/72 ,  B01J 23/745 ,  B01J 23/80 ,  B01J 23/84 ,  B01J 37/30

FI (13件)：

B01J 35/02 J ,  B01J 21/06 ZAB A ,  B01J 23/06 ,  B01J 23/22 A ,  B01J 23/28 ,  B01J 23/50 ,  B01J 23/68 ,  B01J 23/72 ,  B01J 23/80 ,  B01J 23/84 ,  B01J 37/30 ,  B01D 53/36 ZAB G ,  B01J 23/74 301

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 二酸化炭素の光固定化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-317682   出願人：三菱重工業株式会社
• 特表平2-501541
  

引用文献：

審査官引用 (3件)

• イオン注入法による高分散触媒の調整(1)シリカガラス中に調整した高分散な酸化チタン触媒の局所構造と光
• イオン注入法を利用した酸化チタン光触媒の可視光化および高分散光触媒の調整
• イオン注入法による高分散触媒の調整(2)シリカガラス中に調整した高分散な酸化バナジウム触媒の局所構造