金属クラスター生成装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 永坂友康 , 亀松宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-158697
公開番号（公開出願番号）：特開2007-327095
出願日： 2006年06月07日
公開日（公表日）： 2007年12月20日
要約：

【課題】真空容器内で金属ターゲットにレーザを照射し、該金属ターゲットの照射部から放出された金属原子のクラスターを生成する装置において、生成するクラスターのサイズ分布を狭く制御することを可能とした金属クラスター生成装置を提供する。【解決手段】真空容器内で金属ターゲットにレーザを照射し、該金属ターゲットのレーザ照射部から放出された金属原子のクラスターを生成する装置において、上記金属ターゲットにパルスレーザを照射するレーザ発生装置、および該放出された金属原子のプルーム形成位置を三次元的に取り囲む多数箇所に各々配置され、該プルーム形成位置に向けて不活性な冷却ガスを、上記パルスレーザの照射パルスと同期させてパルス状に吹き付ける多数のガス導入路を備えたことを特徴とする金属クラスター生成装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空容器内で金属ターゲットにレーザを照射し、該金属ターゲットのレーザ照射部から放出された金属原子のクラスターを生成する装置において、上記金属ターゲットにパルスレーザを照射するレーザ発生装置、および該放出された金属原子のプルーム形成位置を三次元的に取り囲む多数箇所に各々配置され、該プルーム形成位置に向けて不活性な冷却ガスを、上記パルスレーザの照射パルスと同期させてパルス状に吹き付ける多数のガス導入路を備えたことを特徴とする金属クラスター生成装置。

IPC (1件)：

C23C 14/28

FI (1件)：

C23C14/28

Fターム (3件)：

4K029BA01 , 4K029CA01 , 4K029DC03

引用特許：

出願人引用 (4件)

薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-230100 出願人：大阪瓦斯株式会社
レーザイオンプレーティング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-341529 出願人：工業技術院長, 新日本製鐵株式会社
二次電池用負極、その製造方法及びこれを用いた二次電池
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-072548 出願人：松下電器産業株式会社

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