特許
J-GLOBAL ID：200903051712417837

パターン検査方法

発明者：
服部 新一

服部 新一 について


出願人/特許権者：
日本アビオニクス株式会社

日本アビオニクス株式会社 について


代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-324331
公開番号（公開出願番号）：特開平11-160246
出願日： 1997年11月26日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：
【要約】【課題】 パターンの欠陥の過検出を防止する。【解決手段】 マスタパターンと被測定パターンのエッジデータの誤差量を求める(ステップ108)。突起の先端部の誤差量a、欠損の最深部の誤差量bを求める(ステップ109)。突起の先端部と隣接パターンとのギャップAを求め、ギャップ残存率a/Aを算出し、欠損部におけるパターン残量Bを求め、パターン残存率b/Bを算出する(ステップ110)。突起の誤差量としては欠陥であっても、誤差量aに対してギャップAが充分大きい場合には、被測定パターンを正常とみなす。欠損の誤差量としては欠陥であっても、誤差量bに対してパターン残量Bが充分大きい場合には、被測定パターンを正常とみなす。
請求項（抜粋）：
被測定パターンの濃淡画像からパターンエッジを示すエッジデータを抽出し、検査の基準となるマスタパターンと前記エッジデータの誤差量を求め、この誤差量に基づいて被測定パターンの欠陥候補となる突起を検出し、欠陥候補を中心とする所定の領域において前記誤差量が最大値aをとる被測定パターンのエッジデータを突起の先端部とし、この突起の先端部からの距離が最小となる隣接被測定パターンのエッジデータを探して、このときの距離を隣接被測定パターンとのギャップAとし、前記誤差量とギャップ残存率a/Aに基づき、前記欠陥候補が欠陥であるか否かを判定することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (2件)：
G01N 21/88 ,  G06T 7/00
FI (2件)：
G01N 21/88 E ,  G06F 15/62 405 A
引用特許：
審査官引用 (3件)

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