特許

J-GLOBAL ID：200903051737204145

縮小転写方法及び縮小転写用マスク

発明者： 中筋 護
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-196409
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026372
出願日： 1997年07月08日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】【課題】 大型のデバイスパターンを寸法の限られたマスク基板上に形成できる縮小転写方法及び縮小転写用マスクを提供する。【解決手段】 転写パターンを複数の副視野に分割し、各副視野について、コンプリメンタリーな2つの副視野に分割する要否を判定する。そして、マスク基板1の中央の領域2に、1チップ分の、コンプリメンタリーに分割しなかった全副視野と分割した全副視野の一方のパターンをまとめて配置する。中央領域2の左右側方の領域4a、4bに、分割した全副視野のもう一方のパターンを配置する。

請求項（抜粋）：

転写パターンを複数の副視野に分割し、1個の副視野毎に縮小転写を行う方法において;各副視野について、コンプリメンタリーな2つの副視野に分割する要否を判定し、分割する必要のある副視野のみを分割し、分割しなかった副視野、及び分割した副視野を1枚のマスク基板に形成し、該マスク基板を用いて転写することを特徴とする縮小転写方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 504

FI (4件)：

H01L 21/30 541 S ,  G03F 1/16 B ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 502 P

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 荷電粒子線露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-170616   出願人：株式会社ニコン
• 特開平3-196040