特許

J-GLOBAL ID：200903051753151094

成膜装置及び成膜方法

発明者： 山崎 舜平 ,  西 毅
出願人/特許権者： 株式会社半導体エネルギー研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-069422
公開番号（公開出願番号）：特開2002-266065
出願日： 2001年03月12日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】【課題】 高純度な有機化合物層を形成する成膜装置を提供する。【解決手段】 本発明では精製室において帯融解法により精製された有機化合物を、その純度を低下させることなく成膜室内に備えられている基板上に蒸着することができるため、高純度な有機化合物層を形成することが可能になる。

請求項（抜粋）：

坩堝と、ヒーターと、を有し、前記ヒーターは前記坩堝を加熱し、かつ移動する手段と、を有することを特徴とする成膜装置。

IPC (4件)：

C23C 14/24 ,  H05B 3/00 350 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (4件)：

C23C 14/24 C ,  H05B 3/00 350 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (14件)：

3K007DA02 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  3K007FA03 ,  3K058AA00 ,  3K058BA19 ,  3K058GA06 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029DB06 ,  4K029DB14 ,  4K029DB18 ,  4K029KA09

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 有機電界発光素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-275743   出願人：積水化学工業株式会社
• 特開平4-168430
  
• 有機化合物モノマーの精製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-116976   出願人：日本真空技術株式会社
• 蒸発源および蒸発源を備えた真空処理室、有機化合物膜の成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-262319   出願人：日本真空技術株式会社
• 特開平4-083871
  
• 特開平4-083871
  
• 有機結晶を用いた電界発光素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-000878   出願人：積水化学工業株式会社