特許
J-GLOBAL ID:200903051903688342

有機絶縁膜材料、有機絶縁膜及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-098731
公開番号(公開出願番号):特開2000-344896
出願日: 2000年03月31日
公開日(公表日): 2000年12月12日
要約:
【要約】【課題】 本発明は電気特性、熱特性、低吸水性に優れた有機絶縁膜材料、有機絶縁膜及び製造方法を提供する事を目的とする。【解決手段】 ポリベンゾオキサゾールとオリゴマーとを反応させた反応物からなる有機絶縁膜材料、これを用いた一般式(2)で表される構造を主構造とするポリベンゾオキサゾール樹脂層が微細孔を有してなることを特徴とする有機絶縁膜。【化2】(但し、一般式(2)中のnは2〜1000までの整数を示す。Xは4価及びYは2価の有機基を表す。)
請求項(抜粋):
一般式(1)で表されるポリベンゾオキサゾール前駆体のカルボン酸末端とアミノ基を有するオリゴマーとを反応させた反応物からなる有機絶縁膜材料。【化1】(但し、一般式(1)中のnは2〜1000までの整数を示す。Xは4価及びYは2価の有機基を表す。)
IPC (10件):
C08G 81/00 ,  C08F 8/30 ,  C08G 64/42 ,  C08G 73/22 ,  C08J 9/26 CEZ ,  C08J 9/26 102 ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/768 ,  C09D 5/25 ,  C09D179/04
FI (10件):
C08G 81/00 ,  C08F 8/30 ,  C08G 64/42 ,  C08G 73/22 ,  C08J 9/26 CEZ ,  C08J 9/26 102 ,  H01L 21/312 A ,  C09D 5/25 ,  C09D179/04 B ,  H01L 21/90 S
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (1件)

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