特許

J-GLOBAL ID：200903051904223530

薄膜ディスクまたはウェハーの両面光学検査システムおよび方法

発明者： スティーブ ダブリュー ミークス
出願人/特許権者： カンデラ インスツルメンツ
代理人 (1件)： 磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-001750
公開番号（公開出願番号）：特開2005-214966
出願日： 2005年01月06日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：

【課題】 表面の単一走査で薄膜ディスクまたはウェハー上の粒子、ピットまたはスクラッチを検出・分類する両面光学検査システムを提示する。【解決手段】 1つの実施形態において、本発明は1対の直交するように向けられたレーザビームを、一方はウェハーまたは薄膜ディスク上の半径方向に、他方は円周方向に使用する。半径方向および円周方向のビームからの散乱光は、偏光によるかまたは異なるレーザ波長と一緒に2色性の鏡の使用により分離される。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

第1の光ビームを物体上の第1の位置に向けて第1の入射面に導き、 前記第1の入射面と第2の入射面との角度がゼロに等しくない第2の光ビームを、前記物体上の第2の位置に向けて前記第2の入射面に導き、 前記第1の位置と前記第2の位置から散乱された光強度を含む散乱光強度を、第1の散乱光ビームと第2の散乱光ビームに分離し、 前記第1の散乱光ビームを検出するとともに、 前記第2の散乱光ビームを検出すること、 を含むことを特徴とする物体表面の欠陥を測定するための方法。

IPC (5件)：

G01N21/95 ,  G01B11/30 ,  G01N21/956 ,  G11B5/84 ,  H01L21/66

FI (5件)：

G01N21/95 A ,  G01B11/30 A ,  G01N21/956 A ,  G11B5/84 C ,  H01L21/66 J

Fターム (65件)：

2F065AA24 ,  2F065AA31 ,  2F065AA49 ,  2F065BB01 ,  2F065BB22 ,  2F065CC03 ,  2F065CC19 ,  2F065CC31 ,  2F065FF09 ,  2F065FF41 ,  2F065FF49 ,  2F065FF66 ,  2F065GG06 ,  2F065HH04 ,  2F065HH08 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ16 ,  2F065JJ18 ,  2F065JJ22 ,  2F065LL00 ,  2F065LL12 ,  2F065LL15 ,  2F065LL21 ,  2F065LL32 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065LL46 ,  2F065LL47 ,  2F065LL49 ,  2F065LL62 ,  2F065MM16 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ42 ,  2G051AA51 ,  2G051AA71 ,  2G051AB01 ,  2G051AB07 ,  2G051BA01 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051BB01 ,  2G051BB07 ,  2G051CA03 ,  2G051CA07 ,  2G051CB05 ,  2G051CC07 ,  2G051CC11 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106CA38 ,  4M106DB02 ,  4M106DB08 ,  4M106DB11 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112JJ03 ,  5D112JJ05

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 光学的測定システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-263624   出願人：エイチデーアイインストロメンテーション
• 特許第3141974号
  
• 両面光ディスク面検査装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-512426   出願人：ダヴリュイーエーマニュファクチュアリング,インク.
• 特開平1-245137