特許

J-GLOBAL ID：200903051929831739

プラズマプロセス装置に於けるマイクロ波導入装置

発明者： 中川 雅嗣 ,  樋口 靖 ,  中村 聡 ,  上東 俊光 ,  宮川 善秀 ,  小松 孝
出願人/特許権者： 株式会社アルバック
代理人 (1件)： 北村 欣一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-369984
公開番号（公開出願番号）：特開2002-176042
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2002年06月21日
要約：

【要約】【課題】耐力性があり、誘電損失が少なく、プラズマプロセス装置に大電力密度のマイクロ波を導入して信頼性、安定性の高い高効率のプロセスを行うに適したマイクロ波導入装置を提供する。【解決手段】処理されるべき基板5を備えた真空処理室1内へ放電ガスのプラズマ7を生成するためのマイクロ波を導入する誘電体製のマイクロ波導入窓6を、複数枚の誘電体板を介して構成する。該誘電体板のうち、マイクロ波の導入側の誘電体板6aをアルミナで形成し、その導出側の誘電体板6bを窒化アルミニウムで形成する。

請求項（抜粋）：

真空排気手段に接続された真空排気口と、放電ガスの導入口と、処理されるべき基板とを備えた真空処理室内へ該放電ガスのプラズマを生成するためのマイクロ波を導入する誘電体製のマイクロ波導入窓を設けたプラズマプロセス装置に於いて、該マイクロ波導入窓を複数枚の誘電体板を介して構成したことを特徴とするプラズマプロセス装置に於けるマイクロ波導入装置。

IPC (5件)：

H01L 21/31 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

H01L 21/31 A ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/511 ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 B

Fターム (24件)：

4G075AA24 ,  4G075BA05 ,  4G075BC06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA47 ,  4K030FA02 ,  4K030KA30 ,  5F004BA14 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB29 ,  5F004BB32 ,  5F004CA02 ,  5F045AA09 ,  5F045AE13 ,  5F045AE15 ,  5F045AE17 ,  5F045AE19 ,  5F045AE21 ,  5F045DP04 ,  5F045EB03 ,  5F045EC05 ,  5F045EH03 ,  5F045EH17

引用特許：

審査官引用 (1件)

• マイクロ波導入装置及びプラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-276467   出願人：住友金属工業株式会社