特許
J-GLOBAL ID:200903051937837100
過酸化水素の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
久保山 隆
, 中山 亨
, 榎本 雅之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-145048
公開番号(公開出願番号):特開2006-321673
出願日: 2005年05月18日
公開日(公表日): 2006年11月30日
要約:
【課題】 触媒を用いて分子状水素及び分子状酸素から過酸化水素を製造する際に用いる触媒であって、従来知られている製造方法による触媒に、より高い活性を与えた触媒を用いる過酸化水素の製造方法を提供する点にある。【課題を解決するための手段】 すなわち、本発明は、少なくとも以下の第1工程〜第4工程を含む製造方法によって製造された触媒を用いることを特徴とする過酸化水素の製造方法に係るものである。第1工程 周期律表の第8族,9族,10族又は11族元素化合物を担体に担持し、前駆体(A)を得る工程、第2工程 第1工程で得た前駆体(A)を還元剤で処理し、前駆体(B)を得る工程、第3工程 第2工程で得た前駆体(B)を酸化剤で処理し、前駆体(C)を得る工程、第4工程 第3工程で得た前駆体(C)を還元剤で処理する工程。
請求項(抜粋):
分子状水素と分子状酸素を用いて過酸化水素を製造する方法であって、以下の第1工程〜第4工程を含む製造方法によって製造される触媒を用いることを特徴とする過酸化水素の製造方法。
第1工程: 周期律表の第8族,9族,10族又は11族元素化合物のうち少なくとも1種類以上の元素化合物を担体に担持し、前駆体(A)を得る工程、
第2工程: 第1工程で得た前駆体(A)を還元剤で処理し、前駆体(B)を得る工程、
第3工程: 第2工程で得た前駆体(B)を酸化剤で処理し、前駆体(C)を得る工程、
第4工程: 第3工程で得た前駆体(C)を還元剤で処理する工程。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (18件):
4G169AA03
, 4G169BA05B
, 4G169BB02A
, 4G169BB02B
, 4G169BC02B
, 4G169BC32A
, 4G169BC33A
, 4G169BC70A
, 4G169BC71A
, 4G169BC72A
, 4G169BC72B
, 4G169BC73A
, 4G169BC74A
, 4G169BC75A
, 4G169BD12C
, 4G169CB81
, 4G169FB40
, 4G169FB44
引用特許:
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (7件)
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過酸化水素の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-314073
出願人:三菱瓦斯化学株式会社
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過酸化水素の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-032096
出願人:三井東圧化学株式会社
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過酸化水素の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-170856
出願人:三井東圧化学株式会社
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