特許

J-GLOBAL ID：200903051966103077

状態監視方法及び状態監視装置並びにプログラム

発明者： 萩原 健一郎
出願人/特許権者： オムロン株式会社
代理人 (1件)： 松井 伸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-183077
公開番号（公開出願番号）：特開2009-020717
出願日： 2007年07月12日
公開日（公表日）： 2009年01月29日
要約：

【課題】 複数の計測地点の計測値を一括して監視することができるとともに、複数地点を含む計測領域内での均一性を監視することができる状態監視方法を提供すること【解決手段】 ワークの同一平面に設定した複数(N×n個)の計測地点の計測値を主成分分析により、Q統計量と、T2統計量の指標を求める。各計測値がほぼ同じ値を採った場合には、Q統計量の値は小さくなる。よって、Q統計量が一定の範囲内であれば、均一性があり、一定以上になると不均一であると言える。また、T2統計量は、主成分の軸に沿った設計値(平均値)からの計測値ずれの絶対値であるので、設計値通りに製造できているかの監視が行なえる。【選択図】 図7

請求項（抜粋）：

監視対象領域内の複数の計測地点の計測値を取得する工程と、 その取得した複数の計測値を主成分分析により、監視対象領域内の均一性を評価するためのQ統計量と、計測値の設定値からのずれを評価するためのT2統計量の少なくとも一方を求める統計量演算工程と、 を備えた状態監視方法。

IPC (4件)：

G05B 19/418 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66 ,  H01L 21/205

FI (5件)：

G05B19/418 Z ,  H01L21/30 502G ,  H01L21/30 502V ,  H01L21/66 P ,  H01L21/205

Fターム (25件)：

2F076BA17 ,  2F076BD05 ,  2F076BD07 ,  2F076BD14 ,  2F076BE04 ,  2F076BE07 ,  2F076BE08 ,  2F076BE12 ,  3C100AA58 ,  3C100BB27 ,  3C100EE06 ,  4M106AA01 ,  4M106CA48 ,  4M106DH03 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ27 ,  5F045AA08 ,  5F045GB05 ,  5F045GB07 ,  5F045GB08 ,  5F046AA18 ,  5F046AA28 ,  5F046JA21

引用特許：

出願人引用 (1件)

• エッチング処理装置およびエッチング処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-282164   出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ