特許

J-GLOBAL ID：200903051981743651

ガス分析方法及びガス分析装置

発明者： 中坊 康司 ,  記村 隆章 ,  上村 隆 ,  後藤 正敏 ,  真鍋 岳史 ,  枝澤 克人 ,  大矢 浩三 ,  永野 修次 ,  新田 昭彦 ,  安藤 秀樹 ,  八高 賢一
出願人/特許権者： 株式会社半導体先端テクノロジーズ ,  財団法人地球環境産業技術研究機構
代理人 (1件)： 高田 守 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-261444
公開番号（公開出願番号）：特開2003-065953
出願日： 2001年08月30日
公開日（公表日）： 2003年03月05日
要約：

【要約】【課題】 PFC類ガスの濃度の分析において、PFC類ガスの赤外吸収波長に干渉する干渉ガスに妨げられることなく高精度の分析を行う。【解決手段】 PFC類ガスと、PFC類ガスの赤外吸収波長に干渉する干渉ガスとを含む混合ガス中のPFC類ガスの濃度を、赤外分光器を用いて測定するガス分析において、PFC類ガスとは反応せず、干渉ガスとは反応する処理剤に、前記混合ガスを接触させて、混合ガスから前記干渉ガスを除去した後、干渉ガスが除去された混合ガスを、赤外分光器に流通させて、混合ガス中のPFC類ガスの濃度を分析する。

請求項（抜粋）：

PFC類ガスと、PFC類ガスの赤外吸収波長に干渉する干渉ガスとを含む混合ガス中の前記PFC類ガスの濃度を、赤外分光器を用いて測定するガス分析方法において、前記PFC類ガスとは反応せず、前記干渉ガスとは反応する処理剤に、前記混合ガスを接触させて、前記混合ガスから前記干渉ガスを除去するステップと、前記干渉ガスが除去された前記混合ガスを、前記赤外分光器に流通させて、前記混合ガス中の前記PFC類ガスの濃度を分析するステップとを含むことを特徴とするガス分析方法。

IPC (4件)：

G01N 21/35 ZAB ,  G01N 30/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

G01N 21/35 ZAB Z ,  G01N 30/00 C ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 E

Fターム (22件)：

2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059CC12 ,  2G059DD02 ,  2G059DD03 ,  2G059EE01 ,  2G059EE12 ,  2G059FF10 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ01 ,  5F004CB03 ,  5F004CB09 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA02 ,  5F004DA03 ,  5F004DA16 ,  5F004DA17 ,  5F004DA18 ,  5F045AC02 ,  5F045EG08 ,  5F045GB07

引用特許：

審査官引用 (3件)

• パーフルオロ化合物の分解方法及び分解装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-030094   出願人：日本エア・リキード株式会社
• 排ガス処理剤およびそれを用いる排ガス処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-313199   出願人：三井東圧化学株式会社
• 特開昭61-035849