特許
J-GLOBAL ID:200903051988733422

多頂性ポリエチレンの製造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小田島 平吉 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-272998
公開番号(公開出願番号):特開2000-191726
出願日: 1999年09月27日
公開日(公表日): 2000年07月11日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 多頂性ポリエチレンの製造。【解決手段】 (i)(a)式R”(CpRm)(Cp’R’n)MQ2[Cpはシクロペンタジエニル部分、Cp’はフルオレニル環、Rは水素またはC1〜20ヒドロカルビル、0≦m≦4、R’はヒドロカルビル、0≦n≦8、R”はC1-C20アルキレン基等、MはIVB族の遷移金属またはバナジウム、Qは炭素原子C1〜20ヒドロカルビルまたはハロゲン、重心-M-重心の角度が105°から125°の範囲]で表されるメタロセン触媒および(b)共触媒を含んで成る1番目の触媒系にエチレンモノマーとC3〜10アルファ-オレフィンを1番目の反応槽内で1番目の重合条件下のスラリー方法で接触させ、1番目の分子量のポリエチレンを生成させ、(ii)それより低い2番目の分子量のポリエチレンを供給し、(iii)1番目のポリエチレンと2番目のポリエチレンを混合する。
請求項(抜粋):
多頂分子量分布を示すポリエチレン樹脂を製造する方法であって、(i)(a)一般式R”(CpRm)(Cp’R’n)MQ2[式中、Cpはシクロペンタジエニル部分であり、Cp’は置換もしくは未置換のフルオレニル環であり、各Rは独立して水素または炭素原子数が1から20のヒドロカルビルであり、0≦m≦4であり、各R’は独立して炭素原子数が1から20のヒドロカルビルであり、0≦n≦8であり、R”はC1-C20アルキレン基、ジアルキルゲルマニウムもしくはケイ素もしくはシロキサン、またはアルキルホスフィンもしくはアミン基を包含するブリッジであり、このブリッジは置換もしくは未置換であり、MはIVB族の遷移金属またはバナジウムであり、そして各Qは炭素原子数が1から20のヒドロカルビルまたはハロゲンであり、ここで、重心-M-重心の角度は105°から125°の範囲である]で表される1番目のメタロセン触媒および(b)該触媒の成分を活性にする共触媒を含んで成る1番目の触媒系にエチレンモノマーと炭素原子数が3から10のアルファ-オレフィンを包含するコモノマーを1番目の反応槽内で1番目の重合条件下のスラリー方法で接触させることで、1番目の分子量と0.5g/10分以内のHLMIと0.925g/ml以内の1番目の密度を有する1番目のポリエチレンを生成させ、(ii)該1番目のポリエチレンよりも低い2番目の分子量と高い密度を有する2番目のポリエチレンを供給し、そして(iii)該1番目のポリエチレンと2番目のポリエチレンを一緒に混合することで多頂分子量分布を示すポリエチレン樹脂を生成させる、ことを含む方法。
IPC (2件):
C08F 10/02 ,  C08F 4/64
FI (2件):
C08F 10/02 ,  C08F 4/64
引用特許:
審査官引用 (23件)
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引用文献:
審査官引用 (8件)
  • 新世代ポリマーの創製とメタロセン触媒, 19930820, 第27頁-第33頁
  • 新世代ポリマーの創製とメタロセン触媒, 19930820, 第27頁-第33頁
  • 新世代ポリマーの創製とメタロセン触媒, 19930820, 第27頁-第33頁
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