特許
J-GLOBAL ID：200903069733082084
ポリオレフィン製造
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小田島 平吉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-189248
公開番号（公開出願番号）：特開2000-034315
出願日： 1999年07月02日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：
【要約】【課題】 ポリオレフィン製造。【解決手段】 不活性な支持体に支持されている一般式R”(CpRm)(Cp’R’n)MQ2で表されるメタロセン触媒成分を含んで成る触媒系を線状低密度ポリオレフィンのスラリー相製造で用いる使用であって、ここで、Cpはシクロペンタジエニル部分であり、Cp’は置換もしくは未置換のフルオレニル環であり、R”は上記成分に立体剛性を与えている構造ブリッジであり、各Rは独立して水素または炭素原子数が1から20のヒドロカルビルであり、0≦m≦4であり、各R’は独立して炭素原子数が1から20のヒドロカルビルであり、0≦m≦8であり、MはIVB族の遷移金属またはバナジウムであり、そして各Qは炭素原子数が1から20のヒドロカルビルまたはハロゲンであり、上記メタロセンが有する重心-M-重心の角度は105°から125°の範囲である。
請求項（抜粋）：
不活性な支持体に支持されている一般式R”(CpRm)(Cp’R’n)MQ2で表されるメタロセン触媒成分を含んで成る触媒系を線状低密度ポリオレフィンのスラリー相製造で用いる使用であって、Cpがシクロペンタジエニル部分であり、Cp’が置換もしくは未置換のフルオレニル環であり、R”が該成分に立体剛性を与えている構造ブリッジであり、各Rが独立して水素または炭素原子数が1から20のヒドロカルビルであり、0≦m≦4であり、各R’が独立して炭素原子数が1から20のヒドロカルビルであり、0≦n≦8であり、MがIVB族の遷移金属またはバナジウムであり、そして各Qが炭素原子数が1から20のヒドロカルビルまたはハロゲンであり、ここで、該メタロセンが有する重心-M-重心の角度が105°から125°の範囲である触媒系の使用。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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