特許
J-GLOBAL ID：200903052037599447
微細構造転写方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 祥泰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-367266
公開番号（公開出願番号）：特開平11-128722
出願日： 1997年12月24日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：
【要約】【課題】 構造体の表面に,効率良く反応生成物をコーティングした被覆物質及びこの被覆物質から構造体の一部又は全部を除去し,構造体の微細構造を転写した反応生成物を得ることができる微細構造転写方法を提供すること。【解決手段】 超臨界流体に反応前駆体を溶解して前駆体流体を作製する溶解工程と,反応開始剤を含有させた構造体に上記前駆体流体を接触させて,上記反応前駆体と反応開始剤とを反応させ,該構造体上に反応生成物をコーティングするコート工程とよりなる微細構造転写方法。
請求項（抜粋）：
超臨界流体に反応前駆体を溶解して前駆体流体を作製する溶解工程と,反応開始剤を含有させた構造体に上記前駆体流体を接触させて,上記反応前駆体と反応開始剤とを反応させ,該構造体上に反応生成物をコーティングするコート工程とを含んで構成されることを特徴とする微細構造転写方法。
IPC (5件)：
B01J 19/00
, B05D 1/18
, B05D 5/06
, C01B 31/08
, C01B 33/12
B01J 19/00 K
, B05D 1/18
, B05D 5/06 G
, C01B 31/08 Z
, C01B 33/12 Z
