特許
J-GLOBAL ID：200903052038023859
露光装置及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-088934
公開番号（公開出願番号）：特開2006-269942
出願日： 2005年03月25日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：
【課題】露光装置を構成するチャンバ内の圧力変動を抑制し、チャンバ内に配置される光学素子やセンサ等のコンタミネーションによる汚染を防止する。【解決手段】照明光により照明された原版パターンを基板に投影する投影光学系と、前記基板と原版とを相対的に位置決めするステージとを備える露光装置であって、前記ステージを収容する空間とこれに隣接する前記投影光学系を収容する空間とを光が通過する開口を持つ隔壁で仕切り、前記ステージを収容する空間に流体を供給する手段を設け、前記流体の少なくとも一部を前記開口を介して前記投影光学系側の空間に流動させて回収する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
照明光により照明された原版パターンを基板に投影する投影光学系と、前記基板と原版とを相対的に位置決めするステージとを備える露光装置であって、
前記ステージを収容する空間とこれに隣接する前記投影光学系を収容する空間とを光が通過する開口を持つ隔壁で仕切り、
前記ステージを収容する空間に流体を供給する手段を設け、
前記流体の少なくとも一部を前記開口を介して前記投影光学系側の空間に流動させて回収することを特徴とする露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G21K 5/00
, G21K 5/02
H01L21/30 531A
, G03F7/20 503
, G21K5/00 B
, G21K5/02 X
, H01L21/30 516F
2H097BA02
, 2H097LA10
, 5F046AA22
, 5F046AA28
, 5F046GA07
, 5F046GA14
