特許
J-GLOBAL ID：200903052066006889
シリコンノズルプレートの製造方法及びインクジェットヘッドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-107988
公開番号（公開出願番号）：特開2008-006809
出願日： 2007年04月17日
公開日（公表日）： 2008年01月17日
要約：
【課題】外形加工工程におけるシリコンの切り屑の問題がなく、それ以降のハンドリングが容易であり、かつ製造工程を簡略化できるシリコンノズルプレートの製造方法の提供。【解決手段】シリコン基板の表面にシリコン基板をエッチングするためのエッチングマスクとなる膜を設けるための膜形成工程と、ノズル穴加工パターン及び外形加工パターンに対応して膜を部分的に除去するパターン膜形成工程と、パターン膜をエッチングマスクとしてシリコン基板をエッチング処理してノズル穴を形成すると共に外形加工パターンのうち少なくとも一部にハーフエッチング部を形成するエッチング処理工程と、シリコン基板を前記ハーフエッチング部に沿って割ることにより分離する分離工程と、を有することを特徴とするシリコンノズルプレートの製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
シリコン基板をエッチング処理してノズル穴加工を行うシリコンノズルプレートの製造方法であって、
前記シリコン基板の表面に該シリコン基板をエッチングするためのエッチングマスクとなる膜を設けるための膜形成工程と、
ノズル穴加工パターン及び外形加工パターンに対応して前記膜を部分的に除去するパターン膜形成工程と、
前記パターン膜をエッチングマスクとして前記シリコン基板をエッチング処理してノズル穴を形成すると共に前記外形加工パターンのうち少なくとも一部にハーフエッチング部を形成するエッチング処理工程と、
前記シリコン基板を前記ハーフエッチング部に沿って割ることにより分離する分離工程と、
を有することを特徴とするシリコンノズルプレートの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B41J3/04 103N
, B41J3/04 103H
2C057AF93
, 2C057AG01
, 2C057AG12
, 2C057AP13
, 2C057AP25
, 2C057AP32
, 2C057AP56
, 2C057AP60
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (10件)
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