特許

J-GLOBAL ID：200903052083153925

発光装置の製造方法

発明者： 石井 隆司
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-062333
公開番号（公開出願番号）：特開2007-242388
出願日： 2006年03月08日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：

【課題】発光効率の向上或いは発光寿命の向上を図ることが可能な発光装置の製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、一対の電極間に発光層を具備する発光装置の製造方法であって、電極141を形成する工程と、前記電極141上に電荷輸送性を示す機能層140Aを形成する工程と、前記機能層140A上に発光層140Bを形成する工程と、を含み、前記機能層140Aの形成工程は、当該機能層140Aを構成する導電性材料であって架橋基を有する第1導電性材料と、架橋基を有しない第2導電性材料とを混合したプレ機能膜を成膜する工程と、前記プレ機能膜に対して架橋反応を施す工程と、前記第2導電性材料を溶解可能な溶媒で前記プレ機能膜を洗浄する工程と、を含むことを特徴とする。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

一対の電極間に発光層を具備する発光装置の製造方法であって、 電極を形成する工程と、 前記電極上に電荷輸送性を示す機能層を形成する工程と、 前記機能層上に発光層を形成する工程と、を含み、 前記機能層の形成工程は、当該機能層を構成する導電性材料であって架橋基を有する第1導電性材料と、架橋基を有しない第2導電性材料とを混合したプレ機能膜を成膜する工程と、前記プレ機能膜に対して架橋反応を施す工程と、前記第2導電性材料を溶解可能な溶媒で前記プレ機能膜を洗浄する工程と、を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。

IPC (2件)：

H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (3件)：

H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/22 D

Fターム (15件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC04 ,  3K107CC22 ,  3K107CC25 ,  3K107DD02 ,  3K107DD73 ,  3K107DD78 ,  3K107DD79 ,  3K107EE03 ,  3K107FF14 ,  3K107FF18 ,  3K107GG06 ,  3K107GG08 ,  3K107GG28

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 新規高分子錯体およびそれを用いたエレクトロルミネッセント素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-283577   出願人：ケミプロ化成株式会社