特許

J-GLOBAL ID：200903052109034407

試料像測長方法及び試料像測長装置

発明者： 上野 楠夫
出願人/特許権者： 株式会社トプコン
代理人 (2件)： 西脇 民雄 ,  西村 公芳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-241738
公開番号（公開出願番号）：特開2004-077423
出願日： 2002年08月22日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】試料について、基準画像と試料像のパターンとのマッチングを行って迅速に測長を行うことができる試料像測長方法を提供する。【解決手段】本発明の試料像測長方法は、試料上に電子線を照射し、試料から発生する荷電粒子により試料像を形成し、得られた試料像のパターンを測長する試料像測長方法において、パターン35から抽出されたパターン形状部35aを有すると共に測定領域37、38を設定するための基準位置O2を有する基準画像36と、測定領域37、38を基準位置O2からずらすための複数個のオフセット量Δ1、Δ2とを準備し、基準画像36に基づき試料像に対するパターンマッチングを行って基準位置O2’を求め、求められた基準位置と各オフセット量Δ1、Δ2とに基づきずらされた位置を中心に測定領域37、38をそれぞれ設定してパターン35の測長を行う。【選択図】 図11

請求項（抜粋）：

試料上に電子線を照射し、試料から発生する荷電粒子により試料像を形成し、得られた試料像のパターンを測長する試料像測長方法において、 前記パターンから抽出されたパターン形状部を有すると共に測定領域を設定するための基準位置を有する基準画像と前記測定領域を前記基準位置からずらすための複数個のオフセット量とを準備し、前記基準画像に基づき前記試料像に対するパターンマッチングを行って前記基準位置を求め、求められた基準位置と前記各オフセット量とに基づきずらされた位置を中心に前記測定領域をそれぞれ設定して前記パターンの測長を行うことを特徴とする試料像測長方法。

IPC (3件)：

G01B15/00 ,  H01J37/22 ,  H01J37/28

FI (3件)：

G01B15/00 B ,  H01J37/22 502H ,  H01J37/28 B

Fターム (12件)：

2F067AA21 ,  2F067EE10 ,  2F067HH06 ,  2F067HH13 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067LL00 ,  2F067PP12 ,  2F067RR30 ,  2F067RR35 ,  5C033UU05 ,  5C033UU08

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 走査型電子顕微鏡
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-230458   出願人：株式会社日立製作所