プラズマエンハンスド真空殺菌法、プラズマエンハンスド真空排気法、及びプラズマエンハンスド真空乾燥法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田澤博昭 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-288109
公開番号（公開出願番号）：特開平8-206181
出願日： 1995年10月11日
公開日（公表日）： 1996年08月13日
要約：

【要約】【課題】殺菌処理の初期段階において殺菌装置内で必要な真空を得るのに必要な時間を短くする。【解決手段】殺菌すべき物品は密閉された真空チェンバ11内に載置され、真空チェンバ11は排気される。RF発生器14によって残留ガスのプラズマが初期の排気ステップにおいて生成される。これによって、物品の乾燥を促進し、プラズマを使用しない場合より早く真空チェンバ11を所望の圧力にすることができる。殺菌ガス(反応剤13)が真空チェンバ11内へ注入され、RF発生器14によって第2のプラズマが殺菌ガスプラズマを誘起するために生成される。これにより、真空チェンバ11内の物品が殺菌される。

請求項（抜粋）：

殺菌すべき物品をチェンバ内に載置し、前記チェンバを第1の圧力に到達するまで排気し、前記第1の圧力下の前記チェンバ内でガスプラズマを発生し、第2の圧力に到達するまで前記チェンバの排気を継続して行い、前記第2の圧力下の前記チェンバ内へ殺菌ガスを導入するプラズマエンハンスド真空殺菌法。

IPC (2件)：

A61L 2/14 , A61L 2/02

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開昭51-067568
特開平1-293871
特開平4-231053

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