特許
J-GLOBAL ID:200903052289667259

ワニス処理装置およびその方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人コスモス特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-020024
公開番号(公開出願番号):特開2007-202354
出願日: 2006年01月30日
公開日(公表日): 2007年08月09日
要約:
【課題】ステータコアおよびコイル部分の内周側へのワニスの付着を防止するとともに,ステータを回転軸に確実に固定するワニス処理装置およびその方法を提供すること。【解決手段】本発明のワニス処理装置1は,概略円柱形状の側面部分12bを有する弾性体12と,弾性体12の側面部分12bの中心を含む位置に設けられている回転軸13と,弾性体12の側面部分12bにより外部から区画される中空空間を加圧するために流体を加圧して中空空間に供給するポンプ19と,中空空間が加圧された状態での弾性体12の側面部分12bにより内面を保持されたステータ30の内面以外の部位にワニスを供給するワニス滴下ノズル2,3とを有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
円柱側面部を有する弾性体と, 前記弾性体の円柱側面部により外部から区画される中空空間を加圧する加圧部と, 中空空間が加圧された状態での前記弾性体の円柱側面部により内面を保持された環状対象物の内面以外の部位にワニスを供給するワニス供給部とを有することを特徴とするワニス処理装置。
IPC (1件):
H02K 15/12
FI (1件):
H02K15/12 D
Fターム (9件):
5H615AA01 ,  5H615BB01 ,  5H615BB14 ,  5H615PP01 ,  5H615PP12 ,  5H615RR07 ,  5H615SS10 ,  5H615SS24 ,  5H615SS42
引用特許:
出願人引用 (1件)

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