プレパルスによるレーザ生成プラズマEUV光源

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 西島孝喜 , 須田洋之
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-557224
公開番号（公開出願番号）：特表2008-532293
出願日： 2006年02月24日
公開日（公表日）： 2008年08月14日
要約：

第1の態様において、EUV光を発生させる方法は、原材料を供給する行為/段階と、複数の原材料液滴を発生させる行為/段階と、複数の原材料液滴に第1の光パルスを同時に照射して照射原材料を生成する行為/段階と、その後で、照射原材料を第2の光パルスに露出して、例えば原材料のプラズマを発生させることによってEUV光を発生させる行為/段階とを含むことができる。別の態様においては、EUV光源は、複数の原材料液滴をターゲットボリュームに供給する液滴発生器と、ターゲットボリューム内の複数の原材料液滴に第1のパルスを同時に照射して原材料を生成する第1の光パルス源と、原材料を第2の光パルスに露出してEUV光を発生させる第2の光パルス源とを含むことができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

EUV光を発生させる方法において、原材料を供給する段階と、複数の原材料液滴を発生させる段階と、複数の原材料液滴に第1の光パルスを同時に照射して照射原材料を生成する段階と、その後で、前記照射原材料を第2の光パルスに露出してEUV光を発生させる段階と、を含む方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H05G 2/00

FI (2件)：

H01L21/30 531S , H05G1/00 K

Fターム (7件)：

4C092AA06 , 4C092AA15 , 4C092AB19 , 4C092AC09 , 4C092BD05 , 4C092BD19 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (7件)

米国特許出願第11/067,124号公報
米国特許出願第11/174,443号公報
米国特許第6,625,191号公報

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審査官引用 (2件)

プラズマによる強力短波放射線の発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-012104 出願人：イクストリーメテクノロジースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
極端紫外光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-028336 出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社

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