特許

J-GLOBAL ID：200903052310909799

露光装置の洗浄方法および洗浄装置

発明者： 乳井 勝
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 齋藤 和則 ,  伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-248771
公開番号（公開出願番号）：特開2009-081241
出願日： 2007年09月26日
公開日（公表日）： 2009年04月16日
要約：

【課題】 液浸露光装置の長期に亘る使用により、最終光学素子の液浸液と接する表面に堆積した汚染物質を除去する露光装置の洗浄方法および洗浄装置を提供する。【解決手段】 投影光学系の最も基板の近くに配置された最終光学素子と前記基板との間隙に充填された液浸液を介して、前記パターンを前記基板に投影する露光装置の前記最終光学素子を洗浄する露光装置の洗浄方法において、前記最終光学素子の液浸液と接する表面を拭き、前記最終光学素子の液浸液と接する表面を雰囲気から隔離し、前記最終光学素子の液浸液と接する表面に湿気を有する気体を接触させ、前記液浸液を給排水する給排水ノズルユニットを前記投影光学系の鏡筒から外し、液体を噴出して洗浄を行う洗浄ユニットを前記投影光学系の鏡筒に装着し、前記最終光学素子の液浸液と接する表面を前記液体により洗浄を行なう。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

光源からの光束で原版を照明する照明光学系と、 前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、を備え、 前記投影光学系の最も前記基板の近くに配置された最終光学素子と前記基板との間隙に充填された液浸液を介して、前記パターンを前記基板に投影する露光装置の前記最終光学素子を洗浄する露光装置の洗浄方法において、 前記最終光学素子の液浸液と接する表面を拭き、 前記最終光学素子の液浸液と接する表面を雰囲気から隔離し、 前記最終光学素子の液浸液と接する表面に湿気を有する気体を接触させ、 前記液浸液を給排水する給排水ノズルユニットを前記投影光学系の鏡筒から外し、 液体を噴出して洗浄を行う洗浄ユニットを前記投影光学系の鏡筒に装着し、前記最終光学素子の液浸液と接する表面を前記液体により洗浄を行なうことを特徴とする露光装置の洗浄方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515D ,  H01L21/30 503G ,  G03F7/20 521

Fターム (8件)：

5F046BA03 ,  5F046CB12 ,  5F046CB24 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08 ,  5F046DA27 ,  5F046DA30

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社
• 再公表特許WO99/19504号公報