特許
J-GLOBAL ID：200903052315282352
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-009867
公開番号（公開出願番号）：特開平7-220997
出願日： 1994年01月31日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：
【要約】【目的】 この発明は、X線領域から真空紫外領域のビームを用いて高精度に微細パターンの転写を行うことができる投影露光装置を提供することを目的とする。【構成】 ビーム源11から放射されたシンクロトロン放射光は、ミラー12で反射されると共にブラインド13を通過し、これによりミラー14の位置に二次光源面が形成される。ミラー14からの反射ビームは、予め回路パターンが形成された反射型マスク15に入射し、マスク15からの反射ビームによりミラー16の位置に瞳面が形成される。さらに、ミラー16で反射されたビームがウエハ17に到達し、その結果、マスク15上の回路パターンがウエハ17上に転写される。
請求項（抜粋）：
X線領域から真空紫外領域のビームを発するビーム源と、回路パターンが形成された反射型マスクと、前記ビーム源から発したビームにより二次光源面を形成すると共に二次光源面からのビームを前記反射型マスク上に照射する照明光学系と、前記反射型マスクからの反射ビームをウエハ上に収束させて回路パターンを投影する投影光学系とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
