特許
J-GLOBAL ID:200903052341579738

シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 山田 行一 ,  野田 雅一 ,  清水 義憲
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-552558
公開番号(公開出願番号):特表2008-528528
出願日: 2006年01月17日
公開日(公表日): 2008年07月31日
要約:
シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールの製造方法であって、(a)シクロヘキシルハイドロパーオキサイドをさらに含む有機溶液中に存在する酸および/または二酸化炭素を、その有機溶液を第1の塩基水溶液と混合することによって中和して、第1の水相および第1の有機相を含む第1の混合物を生成する工程、(b)第1の水相を第1の有機相から分離する工程、(c)第1の水相を排出する工程、(d)前記第1の有機相を第2の塩基水溶液と混合することによって、前記第1の有機相中に存在するシクロヘキシルハイドロパーオキサイドを分解して、第2の水相と、シクロヘキサノンおよびクロヘキサノールを含む第2の有機相とを含む、第2の混合物を生成する工程、(e)第2の水相を第2の有機相から分離する工程、(f)分離された前記第2の水相の少なくとも一部を前記中和工程(a)へ供給する工程を含む方法において、25°Cで測定される第1の水相のpHが8.5より大きくなるように、第1の水相の一部を分解工程に供給する工程をさらに含む方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールの製造方法であって、 (a)シクロヘキシルハイドロパーオキサイドをさらに含む有機溶液中に存在する酸および/または二酸化炭素を、その有機溶液を第1の塩基水溶液と混合することによって中和して、第1の水相および第1の有機相を含む第1の混合物を生成する工程、 (b)第1の水相を第1の有機相から分離する工程、 (c)第1の水相を排出する工程、 (d)前記第1の有機相を第2の塩基水溶液と混合することによって、前記第1の有機相中に存在するシクロヘキシルハイドロパーオキサイドを分解して、第2の水相と、シクロヘキサノンおよびクロヘキサノールを含む第2の有機相とを含む、第2の混合物を生成する工程、 (e)第2の水相を第2の有機相から分離する工程、 (f)分離された前記第2の水相の少なくとも一部を前記中和工程(a)へ供給する工程を含む方法において、 25°Cで測定される第1の水相のpHが8.5より大きくなるように、第1の水相の一部を分解工程に供給する工程をさらに含むことを特徴とする方法。
IPC (7件):
C07C 27/00 ,  C07C 29/48 ,  C07C 33/14 ,  C07C 45/27 ,  C07C 49/403 ,  C07C 29/86 ,  C07C 45/80
FI (7件):
C07C27/00 310 ,  C07C29/48 ,  C07C33/14 ,  C07C45/27 ,  C07C49/403 A ,  C07C29/86 ,  C07C45/80
Fターム (11件):
4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006AC44 ,  4H006BB31 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC16 ,  4H006BD60 ,  4H006BD84 ,  4H006FC22 ,  4H006FE12
引用特許:
審査官引用 (7件)
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