特許
J-GLOBAL ID：200903052357426931
プラズマディスプレイの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-112610
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306343
出願日： 1996年05月07日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：
【要約】【課題】高精細、低抵抗でかつ矩形の電極パターンを形成することができ、プラズマディスプレイパネルの高精細化、高信頼性を得ることができ大型化に有利なプラズマディスプレイを提供する。【解決手段】感光性樹脂組成物と導電性粉末を必須成分とする感光性導電ペーストをフィルム上に塗布する工程、露光工程、現像工程を含む方法でパターン形成を行った後、得られたパターンをガラス基板上に転写する工程により電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法、および感光性樹脂組成物と導電性粉末を必須成分とする感光性導電ペーストをフィルム上に塗布する工程、ガラス基板上に転写する工程、露光工程、現像工程を含む方法で、パターン形成を行い電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。
請求項（抜粋）：
感光性樹脂組成物と導電性粉末を必須成分とする感光性導電ペーストをフィルム上に塗布する工程、露光工程、現像工程を含む方法でパターン形成を行った後、得られたパターンをガラス基板上に転写する工程により電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。
引用特許：
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