特許
J-GLOBAL ID：200903052366111102
パターンデータ補正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松岡 修平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-313546
公開番号（公開出願番号）：特開2001-134627
出願日： 1999年11月04日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：
【要約】【課題】 エッチング工程でのオーバーエッチングを回避することのできるパターンデータを、短時間で生成することのできるパターンデータ補正方法を提供する。【解決手段】 CADで設計されたパターンデータを入力データとし、ユーザーにより指定された、パターン補正を行うべき線幅に基づいて、前記入力データに含まれる全てのパターンデータについて前記指定線幅以下であるか否かを調べ、前記指定線幅以下である前記パターンデータについては、その周囲に補正ラインを付加してパターン幅を太くし、前記付加した補正ラインの集合として補正データを生成し、前記入力データに補正データを加えてフォトマスク作成用のデータとすることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
プリント基板に関する各種の製造用のデータを生成する製造用データ編集システムにおいて、CADで設計されたパターンデータを入力データとし、ユーザーにより指定された、パターン補正を行うべき線幅に基づいて、前記入力データに含まれる全てのパターンデータについて前記指定線幅以下であるか否かを調べ、前記指定線幅以下である前記パターンデータについては、その周囲に補正ラインを付加してパターン幅を太くし、前記付加した補正ラインの集合として補正データを生成し、前記入力データに補正データを加えてフォトマスク作成用のデータとすること、を特徴とする、パターンデータ補正方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05K 3/00 D
, G06F 15/60 658 M
