特許
J-GLOBAL ID：200903060513749153
マスクデータ設計方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-275355
公開番号（公開出願番号）：特開平11-168065
出願日： 1998年09月29日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：
【要約】【課題】 光近接効果補正を行ったマスクデータを高速かつ高精度に得る。【解決手段】 設計パターンを補正してマスクデータとして用いるマスクデータ設計方法において、設計パターンから補正対象線分を抽出する工程と、抽出した線分を補正に適した長さに分割する工程と、分割した線分の空間的な配置の特徴を一次元的ルールで近似できるか否かにより一次元パターンと二次元パターンに分類する工程と、分類したパターン種別に応じて補正を行う工程とを有し、分割線分の配置が一次元的パターンの場合は、分割線分から垂直方向に見た所定距離内の配置を一次元プロセスシミュレーションで補正値を求め、分割線分の配置が二次元的パターンの場合は、分割線分上の1点から垂直方向及び水平方向に所定距離を取った矩形領域に含まれるパターンを二次元的に抽出し、抽出したパターンを二次元プロセスシミュレーションで補正値を求める。
請求項（抜粋）：
設計パターンを基にマスクに形成されたパターンをウェハ上に転写して得られる転写パターンの設計パターンに対する忠実度を向上するために、設計パターンを補正してマスクデータとして用いるマスクデータ設計方法において、前記設計パターンから補正対象線分を抽出する工程と、抽出した線分を補正に適した長さに分割する工程と、分割した線分の空間的な配置の特徴が所定の一次元的ルールに適合するかを判断する工程と、前記所定の一次元ルールに適合する場合には、前記分割された線分を一次元パターンに分類し、適合しない場合には二次元パターンに分類する工程と、分類したパターン種別に応じて前記分割された線分の補正を行う工程とを含むことを特徴とするマスクデータ設計方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G06F 17/50
H01L 21/30 502 G
, G03F 1/08 A
, G06F 15/60 658 M
, H01L 21/30 502 P
