特許

J-GLOBAL ID：200903052376790857

多孔質酸化チタン薄膜とその製造方法

発明者： 八巻 徹也 ,  伊藤 久義 ,  篠原 竜児 ,  浅井 圭介 ,  阿部 弘亨 ,  土方 泰斗 ,  矢口 裕之
出願人/特許権者： 日本原子力研究所
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-132502
公開番号（公開出願番号）：特開2003-321222
出願日： 2002年05月08日
公開日（公表日）： 2003年11月11日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、従来のゾル-ゲル法によるものとは異なり、空隙率が高く大きな比表面積を有しており、また、非球形の微結晶集合体から構成される多孔質TiO2薄膜と、その膜厚をナノメートルレベルで制御する多孔質TiO2薄膜の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 本発明は、空隙率が50%以上であり、大きな比表面積を有する多孔質酸化チタン薄膜であって、アスペクト比の高い薄片状の形態を有する酸化チタン微結晶集合体から構成されることを特徴とする薄膜、および組成式Ti2-x/4O4x-(x=0.60〜0.75)で示されるチタニアナノシートと有機アンモニウム分子とを水面上で錯形成させてチタニア-有機層状ハイブリッド薄膜を製造し、ラングミュア-ブロジェット法を利用することによってそのまま固体基板上に単層あるいは多層で累積させ、高温で焼成することを特徴とする多孔質TiO2薄膜の製造方法を課題解決手段とする。

請求項（抜粋）：

空隙率が50%以上であり、大きな比表面積を有する多孔質酸化チタン薄膜。

Fターム (6件)：

4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CB05 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G047CD04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 結晶性酸化チタン単分子膜の作製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-295963   出願人：日本原子力研究所

引用文献：

審査官引用 (2件)

• チタニアナノシート累積多層超薄膜の合成とその紫外線照射および加熱処理による改質
• LB法を利用した有機アンモニウム/チタン酸シートハイブリッド薄膜の作製